Обнаружение дефектов электронных микросхем на изображениях

Данная задача состоит в разработке алгоритмов формирования маски дефектных участков электронных микросхем путем анализа изображений, получаемых микроскопом высокого разрешения (электронным микроскопом). При этом дефектом называется та область изображения, где наблюдается отличие анализируемого (дефектного) изображения от эталонного (бездефектного).

В результаты проведенных исследований был разработан алгоритм, основанный на прямом поиске различий эталонного и дефектного изображений. Очевидно, что при таком подходе алгоритм обнаружения дефектов по паре изображений низкого увеличения может быть разделен на два последовательных, но совершенно независимых этапа. Первый этап – автоматическое совмещение пары изображений и второй – нахождение области дефекта, как области различия уже совмещенных эталонного и дефектного изображений.